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1. 基材選型與預處理

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在選用304/316L不銹鋼（厚度0.03-1.0mm）或銅合金板材，通過堿性脫脂（NaOH溶液）與酸性活化（稀硝酸）去除表面氧化層及油污，確保光刻膠附著力。

2. 光刻膠涂覆與圖形轉(zhuǎn)印

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在噴涂/滾涂正性光刻膠（厚度5-20μm），采用UV曝光機（波長365nm）通過掩膜版精準轉(zhuǎn)印圖案，顯影后形成抗蝕刻保護層，支持微米級線寬（±0.005mm）及孔徑控制。

3. 化學蝕刻成型

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在浸入三氯化鐵或酸性蝕刻液（濃度1.2-1.5g/cm3），動態(tài)調(diào)控溫度（45-50℃）與噴淋壓力（0.2-0.4MPa），腐蝕速率約0.05-0.15mm/min，形成預設孔陣結構。

4. 后處理與表面強化

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在電解去膠（NaClO溶液）后實施電解拋光，表面粗糙度Ra≤0.1μm，增強耐腐蝕性（鹽霧測試≥480h）；可選電鍍鎳/鉻層（厚度2-5μm）提升耐磨性。

5. 質(zhì)量檢測與包裝

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在三次元測量儀校驗孔徑公差（±0.01mm）、透光率及平整度（波動±0.02mm），激光檢孔系統(tǒng)剔除殘次品，真空封裝防氧化，適應食品級（FDA認證）或工業(yè)級需求。

技術核心：光刻圖形化精度與動態(tài)蝕刻參數(shù)優(yōu)化，保障孔陣均勻性（CV值＜0.5%）及邊緣垂直度（89°-90°），適配半導體過濾、高精度傳感器等場景。